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木子大大新蟲(chóng) (初入文壇)
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[求助]
用DMF做溶劑，四正丁基高氯酸銨做支持電解質(zhì)掃出來(lái)的循環(huán)伏安曲線有一對(duì)氧化還原峰 已有1人參與
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近期需要測(cè)定幾個(gè)化合物的循環(huán)伏安曲線。 在不加化合物，用DMF做溶劑，四正丁基高氯酸銨做支持電解質(zhì)的條件下，儀器掃出來(lái)的循環(huán)伏安曲線有一對(duì)氧化還原峰，請(qǐng)問(wèn)這個(gè)峰是氧氣峰嗎？因?yàn)闇y(cè)試前用氮?dú)獯祾吡?0min，以為可以把氧除干凈了。如果不是氧氣峰，難道是溶劑本身的氧化還原峰嗎？ 三電極系統(tǒng)：玻碳電極，鉑絲，銀/氯化銀。 出峰位置：-1.25V左右。（上傳不了圖片） 請(qǐng)大家不吝賜教。 |
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風(fēng)中飄絮1
新蟲(chóng) (小有名氣)
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- 在線: 18.2小時(shí)
- 蟲(chóng)號(hào): 34352482
- 注冊(cè): 2023-12-26
- 專業(yè): 電化學(xué)
【答案】應(yīng)助回帖
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因?yàn)槲覜](méi)做個(gè)這個(gè)實(shí)驗(yàn)所以只能簡(jiǎn)單幫你做一個(gè)分析。 首先，通過(guò)使用氮?dú)獯祾呖梢耘懦糠盅鯕獾拇嬖冢⒉荒芡耆�。即便吹掃�?0分鐘，還是可能存在極微量的氧氣，特別是在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中氧氣的存在是難以完全避免的。 在這種情況下，觀察到的氧化還原峰可能是氧氣的影響。氧氣通常在正電位處（較高的電位值）產(chǎn)生氧化峰，而在負(fù)電位處（較低的電位值）產(chǎn)生還原峰。由于你觀察到的峰出現(xiàn)在-1.25V左右，它更可能是氧氣的還原峰。這也解釋了為什么吹掃氮?dú)獠⒉荒芡耆@個(gè)峰，因?yàn)榧幢闶俏⒘康难鯕庖材茉趯?shí)驗(yàn)中引起明顯的影響。 另一方面，DMF作為溶劑本身是不易在電位上發(fā)生氧化還原反應(yīng)的。因此，溶劑本身的氧化還原峰的可能性較低。更有可能的是，實(shí)驗(yàn)中檢測(cè)到的氧化還原峰是由氧氣引起的。 在進(jìn)行類似實(shí)驗(yàn)時(shí)，為了排除氧氣的影響，可以考慮在氮?dú)夥諊逻M(jìn)行電化學(xué)測(cè)試，或者在電解質(zhì)中添加還原劑，以消除氧氣的影響 |
2樓2023-12-27 14:33:33
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