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[交流]
上海大學理學院CMP課題組招收2026年集成電路專項博士生
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研究背景：先進節(jié)點集成電路光刻機物鏡制造領域 研究方向：光刻機物鏡磁流變拋光納米材料及原子級表面平整技術。 報名要求：具有化學、材料、或摩擦學研究背景，英語6級，具有科研論文發(fā)表經(jīng)歷。 地址：上海大學寶山校區(qū)碳/碳復合材料大樓 A203室 聯(lián)系方式：雷紅教授 hong_lei2005@aliyun.com 雷紅：主要從事新型納米拋光材料、原子級表面拋光技術等方面研究。先后主持完成國家自科基金面上項目6項、國家自科基金重大研究計劃1項。發(fā)表論文140余篇，其中SCI收錄80余篇。授權國家發(fā)明專利20余項。研究成果“高性能納米拋光材料及原子級表面平整技術”獲得2009年上海市科技進步三等獎，“硬脆玻璃基板稀土復合磨料高精拋光技術研究”獲2024年稀土科學技術獎二等獎。 備注： 報考學科屬于：070300 化學，全日制學術博士 報名基本條件：外文期刊發(fā)表過學術論文，英語6級以上。其他見招生簡章。 網(wǎng)上報名時間： 2025年 12月8日～2026年1月20日。https://yjszs.shu.edu.cn/ 具體報名流程見：招生簡章https://yjszs.shu.edu.cn/info/1004/8324.htm https://gmis.shu.edu.cn/ZSJZ/BS/2026/ShowMajor.php-ID=484.htm |
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