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angiwww鐵蟲 (初入文壇)
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[求助]
需要選擇一種適用于作為犧牲層的高分子材料(方便旋涂,易溶解) 已有1人參與
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最近在嘗試使用PVD做納米薄膜,使用硅片/載玻片作為基底 為了使得納米薄膜在形成之后方便剝離,需要在PVD之前先在基底上旋涂一層聚合物,然后再PVD過后利用有機(jī)溶劑(不能用水或酸)將聚合物溶解 之前嘗試使用了光刻膠Su-8,但是光刻膠在加熱固化后很難溶解。利用NMP可以使其溶脹并且從基底上脫離,但是溶脹了的光刻膠仍然粘附在產(chǎn)品納米薄膜上。 查閱了一些資料,PAA似乎是很好的一種犧牲層,但是PAA需要用水來(lái)溶解,而我的產(chǎn)品會(huì)與水、有機(jī)酸發(fā)生反應(yīng),只能使用其他有機(jī)溶劑例如乙醇,丙酮,DMF,DMSO,NMP等。查到有說PMMA和PS的溶解性比較好的,但是不知道多少分子量的比較合適并且方便購(gòu)買? 因此在這里求助各位 |
金蟲 (知名作家)
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鐵蟲 (初入文壇)
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