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光刻人
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[交流]
IWAPS 2020 專題介紹——計算光刻（二）
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第四屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions）將于11月5~6日在四川成都舉辦。 第四屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟與中國光學(xué)學(xué)會聯(lián)合主辦，由中國科學(xué)院微電子研究所、中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所、中科微電子產(chǎn)業(yè)技術(shù)西南研究院以及四川省經(jīng)濟(jì)合作局承辦。IWAPS研討會專注于高端光刻技術(shù)，為來自國內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個技術(shù)交流平臺，參會者可以就材料、設(shè)備、工藝、測量、計算光刻和設(shè)計優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。 Computational lithography Computational lithography is the set of mathematical and algorithmic approaches designed to improve the resolution attainable through photolithography. Photolithography is relying more on resolution enhancement techniques (RETs), since their implementation does not require significant changes in fabrication infrastructure. Computational lithography aims at computer optimization of patterns, using optical proximity correction (OPC), phase shifting mask (PSM), and off-axis illumination (OAI) RET tools. Computational lithography draws from the rich theory of optical optimization, computational imaging, image processing, etc. It is worth mentioning that current works on IWAPS2020 explore applications of machine learning on solving problems encountered by advanced lithography. |
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