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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 網絡生活區(qū) » 有獎問答 » 其他問題 » 光刻技術
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| 【懸賞金幣】回答本帖問題，作者聚氨酯聚脲材料將贈送您 66 個金幣 | ||
斷腸飛龍鐵桿木蟲 (職業(yè)作家)
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[求助]
光刻技術
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光刻技術有沒有可以刻出一系列幾十微米的孔。什么基體都行。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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wolfghost
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- 專業(yè): 電化學
- 管轄: 有獎問答
【答案】應助回帖
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樓主答案是可以的。光刻技術目前精度已經到了納米（國際領先7nm，國內已經突破28nm）尺度，所以你說的微米尺度就不是什么問題了。 另提醒兩點： 首先，先要明白光刻的過程：光刻技術是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。其主要過程為：首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面，引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學反應；再通過顯影技術溶解去除曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域的光刻膠（前者稱正性光刻膠，后者稱負性光刻膠），使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上；最后利用刻蝕技術將圖形轉移到基片上。 其次，既然是做研究工作，還是要明確你要的具體目標，不能“什么基體都行”。方便樓下的蟲子們跟貼回答。  �？蒲刑雇� |
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斷腸飛龍
2樓2020-08-06 15:07:24
斷腸飛龍
鐵桿木蟲 (職業(yè)作家)
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- 專業(yè): 高分子科學
3樓2020-08-06 23:00:32
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