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[交流]
利用全方位離子注入與沉積系統(tǒng)沉積
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有哪位大神了解用全方位離子與注入系統(tǒng)在鈦合金基地上沉積氮化鈦薄膜。系統(tǒng)參數(shù)調(diào)節(jié)不適，沉積速率慢，得到的樣品不好，能否指導(dǎo)一下，解決一下我們的疑問。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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