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[交流]
測量阻抗時對系統(tǒng)進行不同程度的干擾會對測量結(jié)果有什么影響呢? 已有1人參與
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如題,防腐涂層,基底是鋁合金,最原始的涂層體系浸入電解質(zhì)后基本一小時內(nèi)開路就能穩(wěn)定下來,測阻抗的交流幅值為10mV即可;調(diào)整涂層結(jié)構(gòu)后,開路遲遲不穩(wěn),還是以10mV交流幅值測阻抗的話點會特別跳,昨晚把開路時長設(shè)為12小時,今早來看還是不穩(wěn),類似XRD的那種鋸齒型……無能為力,試著對系統(tǒng)施加更高干擾,也即用20mV交流幅值測阻抗,從圖形來看并沒有像之前那樣跳,就是不知道會不會對結(jié)果產(chǎn)生什么影響。! 跪求大神解答,小弟在此拜謝。! 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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開路一段時間內(nèi)很穩(wěn),上下波動5mV以內(nèi),過幾分鐘后突然跳到另一個平臺,此平臺和前面相差較大但不大于20mV,然后在此平臺上下波動5mV以內(nèi),穩(wěn)定幾分鐘后又跳至另一電位平臺……循環(huán)往復(fù),忽上忽下,但整體還是在某一電位值上下 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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開路的變化幅度是多大?與你施加擾動的相對大?對于開路不穩(wěn)的涂層是建議做電位監(jiān)控,查看電位具體的變化趨勢的 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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