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在做Si@C結(jié)構(gòu)中，C的結(jié)構(gòu)對(duì)電化學(xué)的影響，比如C的比表面積與孔隙率，是越大越好，還是越小越好，有沒有這方面的文獻(xiàn)推薦一下的，拜托了
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c?s97
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