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[交流]
測量阻抗時對系統(tǒng)進行不同程度的干擾會對測量結(jié)果有什么影響呢？ 已有1人參與
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如題，防腐涂層，基底是鋁合金，最原始的涂層體系浸入電解質(zhì)后基本一小時內(nèi)開路就能穩(wěn)定下來，測阻抗的交流幅值為10mV即可；調(diào)整涂層結(jié)構(gòu)后，開路遲遲不穩(wěn)，還是以10mV交流幅值測阻抗的話點會特別跳，昨晚把開路時長設(shè)為12小時，今早來看還是不穩(wěn)，類似XRD的那種鋸齒型……無能為力，試著對系統(tǒng)施加更高干擾，也即用20mV交流幅值測阻抗，從圖形來看并沒有像之前那樣跳，就是不知道會不會對結(jié)果產(chǎn)生什么影響�。。� 跪求大神解答，小弟在此拜謝�。�！ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
回復(fù)此樓» 本帖已獲得的紅花（最新10朵）
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
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開路的變化幅度是多大？與你施加擾動的相對大��？對于開路不穩(wěn)的涂層是建議做電位監(jiān)控，查看電位具體的變化趨勢的 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
4樓2019-05-22 15:38:07
2樓2019-05-22 15:29:29
3樓2019-05-22 15:29:37
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開路一段時間內(nèi)很穩(wěn)，上下波動5mV以內(nèi)，過幾分鐘后突然跳到另一個平臺，此平臺和前面相差較大但不大于20mV，然后在此平臺上下波動5mV以內(nèi)，穩(wěn)定幾分鐘后又跳至另一電位平臺……循環(huán)往復(fù)，忽上忽下，但整體還是在某一電位值上下 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
5樓2019-05-22 19:24:12
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